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半導體行業(yè)中為了讓硅片清洗的更干凈，應用超聲波清洗設備來(lái)對硅片表面進(jìn)行超聲波清洗是目前行業(yè)內普遍采用的方法。超聲波清洗的功率、頻率、尺寸、清洗劑溫度的選擇都是與硅片清潔程度有著(zhù)密切的關(guān)系。

超聲波清洗的原理

超聲波清洗是利用超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用對液體和污物直接、間接的作用，使污物層被分散、乳化、剝離而達到清洗目的。目前所用的超聲波清洗機中，空化作用和直進(jìn)流作用應用得更多。

超聲波的空化作用：空化作用就是超聲波以每秒兩萬(wàn)次以上的壓縮力和減壓力交互性的高頻變換方式向液體進(jìn)行透射。在減壓力作用時(shí)，液體中產(chǎn)生真空核群泡的現象，在壓縮力作用時(shí)，真空核群泡受壓力壓碎時(shí)產(chǎn)生強大的沖擊力，由此剝離被清洗物表面的污垢，從而達到精密洗凈目的。  在超聲波清洗過(guò)程中，肉眼能看見(jiàn)的泡并不是真空核群泡，而是空氣氣泡，它對空化作用產(chǎn)生抑制作用降低清洗效率。只有液體中的空氣氣泡被完全脫氣，空化作用的真空核群泡才能達到最佳效果。

超聲波的直進(jìn)流作用：超聲波在液體中沿聲的傳播方向產(chǎn)生流動(dòng)的現象稱(chēng)為直進(jìn)流。聲波強度在0.5W/cm2時(shí)，肉眼能看到直進(jìn)流，垂直于振動(dòng)面產(chǎn)生流動(dòng)，流速約為10cm/s。通過(guò)此直進(jìn)流使被清洗物表面的微油污垢被攪拌，污垢表面的清洗液也產(chǎn)生對流，溶解污物的溶解液與新液混合，使溶解速度加快，對污物的搬運起著(zhù)很大的作用。

超聲波的加速度：液體粒子推動(dòng)產(chǎn)生的加速度。對于頻率較高的超聲波清洗機，空化作用就很不顯著(zhù)了，這時(shí)的清洗主要靠液體粒子超聲作用下的加速度撞擊粒子對污物進(jìn)行超精密清洗。

超聲波清洗功率和頻率的選擇

超聲波清洗機功率的選擇：

超聲波清洗的效果不一定與（功率×清洗時(shí)間）成正比，有時(shí)用小功率，花費很長(cháng)時(shí)間也沒(méi)有清除污垢。而如果功率達到一定數值，有時(shí)很快便將污垢去除。若選擇功率太大，空化強度將大大增加，清洗效果是提高了，但這時(shí)使較精密的零件也產(chǎn)生蝕點(diǎn)，得不償失，而且清洗缸底部振動(dòng)板處空化嚴重，水點(diǎn)腐蝕也增大，在采用三氯乙烯等有機溶劑時(shí)，基本上沒(méi)有問(wèn)題，但采用水或水溶性清洗液時(shí)，易于受到水點(diǎn)腐蝕，如果振動(dòng)板表面已受到傷痕，強功率下水底產(chǎn)生空化腐蝕更嚴重，因此要按實(shí)際使用情況選擇超聲功率。

超聲波清洗機頻率的選擇：

超聲頻率的大小是超聲能量的反映，對于不同大小的臟物所適用的頻率不盡相同。不同頻率針對的顆粒大小也不同，詳見(jiàn)下表：

不同的超聲波清洗頻率有不同的優(yōu)缺點(diǎn)，選擇合適的超聲波頻率對于硅片零部件清洗的潔凈程度有著(zhù)至關(guān)重要的影響。選擇依據大概如下：①低頻超聲能清洗很臟的硅片，具有很強的清洗力，但也容易損傷硅片；②高頻率超聲能清洗細小的臟物，很臟的硅片污染物洗不掉。